Cercetatorii MIT au descoperit cum sa utilizeze nanotehnologia pentru a micsora semnificativ cipurile, facandu-le mai ieftine si mult mai puternice.
Cu noua tehnica, producatorii vor putea crea cipuri 25-nanometer, care este un progres imens, avand in vedere ca anul trecut Intel Corp. a facut prima miscare de la procesul 65nm la 45nm. Intel a anuntat deja ca spera ca undeva in 2009 sa treaca la procesul 32nm.
“Scopul este de a produce modele mai mici pe cip”, a spus Ralf Heilmann, cercetator stiintific in cadrul MIT. “Circuitele integrate si tranzistorii se afla la baza cipurilor – cu cat sunt mai mici cu atat sunt mai rapide si se pot pune mai multe intr-un singur cip. Sunt mai ieftine si mai puternice in acelasi timp”.
Heilmann a spus ca MIT a patentat tehnica si diferite companii producatoare de semiconductori si-au aratat interesul pentru ea.
Noua tehnica implica tehnologia litografica la nanoscara care realizeaza tipare mai subtiri ale liniilor utilizate pentru a produce circuitele pe un cip. Litografia optica utilizeaza lumina pentru a transfera tiparele pe cip. In trecut, a spus Heilmann, producatorii de cipuri au incercat sa utilizeze lumina cu lungime de unda mai scurta pentru a produce liniile mai apropiate unele de celelalte. Insa, tehnica are limitele sale.
Cercetatorii MIT au utilizate lungimi de unda mai mari pentru a trasa 200nm de linii cu 200nm spatiu intre ele. Apoi au luat acest model de linie si l-au mutat mai departe, dupa care au trasat noi linii reducand spatiul dinte ele la jumatate. Cercetatorii au facut acest lucru de nenumarate ori pana cand au obtinut linii si spatii de 25nm.
Echipa de cercetatori a lucrat la Space Nanotechnology Laboratory al MIT Kavli Institute for Astrophysics and Space Research. Echipa a primit sprijin financiar din partea NASA si National Science Foundation.
Sursa: Computerworld ( www.computerworld.com )
